MINSK, 30. Januar (BelTA) – Der belarussische Präsident Alexander Lukaschenko nahm in Minsk bei seinem Besuch des Unternehmens „Planar“ an der Eröffnungsfeier des Zentrums für Spezialtechnologie zur Herstellung von Fotomasken und Mikrooptik teil.
Eine Fotomaske ist eine hochpräzise Schablone (auf Glas oder Folie) mit dem Muster eines zukünftigen Mikrochips oder einer Leiterplatte, die in der Fotolithografie zum Übertragen des Bildes auf den Träger verwendet wird. Einfach ausgedrückt: Ohne Fotomaske kann kein einziger Mikrochip hergestellt werden.
Das neue Zentrum ist der einzige Komplex auf dem Gebiet der ehemaligen Sowjetunion, der die Herstellung von Produkten mit einem technologischen Niveau von 90 nm ermöglicht, die für die Entwicklung fortschrittlicher Modelle von elektronischen Maschinenbauausrüstungen dringend benötigt werden. Dieses Zentrum dient auch als Testgelände für die Erprobung neuer Versionen der vom Unternehmen entwickelten Software.
Die Einrichtung des Zentrums ermöglicht die Herstellung von Fotolithografie-Ausrüstung und Ausrüstung für die Herstellung von Fotomasken mit eigenen Produkten.
Alle Vorbereitungs-, Planungs- und Bauarbeiten wurden in kürzester Zeit durchgeführt, wodurch die Einrichtung des Zentrums zwei Jahre vor dem geplanten Termin abgeschlossen werden konnte.
Nach Abschluss aller Arbeiten wurde im Ingenieur- und Laborgebäude ein Zentrum für Spezialtechnologie zur Herstellung von Mikrooptikprodukten und Fotomasken eingerichtet. Nur wenige Länder weltweit verfügen über die Kompetenz zur Entwicklung und Herstellung solcher Geräte: die USA, Japan und einige Länder der Europäischen Union. Dabei ist die im Zentrum untergebrachte Ausrüstung für die fehlerfreie Herstellung von Fotomasken einzigartig, da kein anderes Land der Welt über die Kompetenzen zur Entwicklung und Herstellung der gesamten Palette an Laserausrüstung für den elektronischen Maschinenbau verfügt, die für die Organisation des technologischen Prozesses der Fotomaskenherstellung erforderlich ist.
Unter Berücksichtigung der Entwicklungsperspektiven verfügt das Zentrum über das Potenzial für einen späteren Übergang zu niedrigeren Projektnormen von 65 nm, wofür eine Nachrüstung der Produktion geplant ist.
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